活性炭在電鍍上的應用
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電鍍專用活性炭分為電鍍液專用活性炭和電鍍廢水處理活性炭兩種。電鍍液專用活性炭主要用于鍍鎳、氫鍍銅、鍍銀、及銅錫合金、HEDP鍍銅、鍍烙等金屬精加工。用活性炭處理電鍍液后，可使鍍層無脆性并防止底層發花現象產生。主要適用于電鍍廠電鍍液雜質的去除及電鍍廢水的電鍍專用炭，對于電鍍液的提純、除雜是提高鍍件產品質量的重要手段之一，它能使鍍層均勻、結晶細致、孔隙率小，結合牢固。具體使用方法：在電鍍槽里，將配制好的電鍍液加以攪拌以后，放入電鍍用活性炭素，再繼續攪拌約半小時后，既可使之慢慢沉淀，相關工序完成；粉末活性炭使用方法非常簡單，根據廢水的濃度及處理預計達到的效果，將活性炭粉末按一定比例與廢水均勻混合即可，因為本身活性炭已經被制成非常細的顆粒，能夠與水充分接觸，能夠很快的將水里的有害物質吸附，達到凈化的效果。
注：電鍍專用炭：可溶性灰分在HEDP鍍液中顯陰性，避免在處理電鍍溶液時產生雜質而影響電鍍效果
1.選用適合的活性炭產品。市場上出售的活性炭有顆粒狀和粉末狀兩類，使用顆粒狀活性炭過濾較方便，但處理效果不及粉末狀活性炭，粉末狀活性炭粒度較小可以和電鍍溶解充分接觸，充分發揮活性炭的脫色吸附能力，但具體使用時應根據鍍液污染程度及生產工藝來選擇。
2.活性炭中應不含對鍍液有害的雜質離子。目前，制造活性炭的原料主要是木、煤和硬殼堅果類(如椰子)的果殼。實踐證明:在鍍液凈化中，以硬果殼類為原料制造的活性炭優于用煤為原料制造的活性炭產品。劣質的活性炭常含較多的鋅等雜質，不宜使用。如用含鋅雜質的活性炭用在鍍鎳液凈化處理中，則會造成更惡劣的污染結果。
3.用量要充分。對有機雜質污染程度不同的鍍液，應采取適當的投入量，一般為2～5g/L，如用量不足，則處理效果欠佳。也可用小工藝試驗槽或赫爾槽通過小試確定活性炭的用量。
4.被處理鍍液的θ和pH要適當。多數鍍液采用θ為55～70℃、pH為5～6條件下處理效果較好。在處理全過程中θ和pH應保持穩定。 5.攪拌要充分、均勻。采用循環過濾和壓縮空氣進行間歇攪拌為宜，如采用人力操作攪拌，應不間斷地在鍍槽中各處進行，不可留有死角。攪拌時間一般應在2～4h。
6.靜置時間。吸附過程完成后，應將鍍液靜置一段時間再進行過濾，靜置時間為6～12h;充分沉淀后，過濾2～3次，直至鍍液中無殘留炭粉，鍍液呈本體顏色(無炭黑色)為止。
7.防止脫附。采用活性炭連續循環過濾的電鍍工藝，活性炭吸附飽和時，應及時清理更換濾芯中的活性炭，防止發生脫附，雜質重新污染鍍液。